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这项技术非常简单，但是意义却是非凡了。仅以能耗为例，6英寸装料量60公斤的单晶炉为例平均能耗在120KH，而采用了最原始的固定式热屏技术，单晶炉的能耗就可以轻易的降低到90KH。而且，采用了热屏的单晶炉，还能显着提升单晶的生长速度，单晶的直径尺寸和良品率也大幅度的提升。
而后来固定式热屏技术的基础上，还出现了更先进的移动热屏，该技术直接把能耗进一步降低，原本能耗120KH的单晶炉，能耗可以进一步降低到了60KH！
后世的半导体行业爆产能，热屏技术也做出了突出的贡献。后世的电子产品的消费者，实际上，也是单晶炉热屏技术的受益者。
1986年7月，在孟欣率领下，单晶炉热屏技术就迅速从理论变成实际的产品。
这项成果本质上并不是太难，成本也不是很高。在成本大概5000多块钱的国产单晶炉里面，增加一个固定的组合件。大致上，仅需要不到1万元成本就可以将一台单晶炉改造成有固定热屏的新式单晶炉。
而目前进口的单晶炉，成本不低于1万美元一台，在比国产的单晶炉更贵的情况下，性能却远远不如这种新式带热屏的单晶炉。
这种一万美元一台的设备，实际上顶多用3~5次就报废，需要更换新的单晶炉。当然了，国外有寿命更长的单晶炉，能用十次左右，但却是禁止对天朝出口的。几十年后单晶炉寿命则是轻易的达到上百炉甚至更长久的寿命。当然了，配合热屏技术的话，晶圆生产的成本和效率，将达到80年代的半导体厂商难以想象的程度。
当然了，使用寿命更长的单晶炉，这则涉及到更复杂的材料学，并不是简单的弄出一份设计图纸就能搞出来。
刘森疑惑的问道：
“这个技术很厉害？”
刘森毕竟不是理工狗，所以只知道CPU、显卡、内存、硬盘、显示面板等等普通消费者看见的摸得着的东西。
还有就是最复杂的光刻机，由于芯片加工都需要光刻机，光刻机也是晶圆加工工业中，最昂贵的设备。集成电路能集成多少晶体管，主要取决于光刻机的精度。所以，即使是小白，都知道光刻机非常关键！
相对于高大上的光刻机而言，单晶炉就显得很土鳖，很少有外行人关注单晶炉技术的发展。
孟欣微笑着说道：
“当然厉害了！决定芯片性能和产能的，不仅仅是光刻机，晶圆的产能和质量，也是非常关键和重要的技术。
仅凭着这项技术，至少可以给你们的芯片节省30%的成本！品质更高的晶圆，也会让芯片加工的良品率更高、性能更好！其实短期内，光刻机的技术没取得突破，仅凭着单晶炉的技术突破，就足以让芯片产能、性能、成本等等指标，都获得大幅度的提升！”
刘森不禁感觉到惊讶：
“这么厉害！”
孟欣说道：
“当然！换做是听你的，头疼医头，脚痛医脚，即使我现在就帮你们改进光刻机技术，保守估计也需要一年以上时间，才能有成效。而且，我现在去给你研发2~1.5微米的光刻机，属于严重浪费宝贵的科研资源。跟在国际厂商后面模仿，你们现在的团队就可以了。
我的团队，将直接从1微米起步，研发投影式光刻机！我参观了维创半导体和L山半导体的工厂，都是接近式光刻机，70年代的技术，现在是主流。但是技术升级潜力有限，所以，很快就会被投影曝光式光刻机所替代！”
刘森点了点头，知道技术上孟欣比自己家兄弟强无数倍。
有未来技术资料作为参考的孟欣，可能是世界上最厉害的技术大牛。
业内人士刚有一个初步的想法，她已经清晰的了解未来的技术发展趋势，很多现在是机密的技术，在未来已经是能公开的资料。
于是，刘森就通知了老大刘焱，刘焱一听立马就不淡定了。
7月份，在刘焱强行的推广之下，维创半导体公司开始正式大规模的推广热屏单晶炉。
虽然，一开始有些技术人员比较固执，觉得贸然采用一种从来没听过的技术有点冒险。但是仅仅过了一周之后，反对声就彻底消失了。
谁反对，生产线上的一线技术人员立马就会敲爆他们的狗头！因为，热屏技术的好处，那是立竿见影的！
采用了热屏技术的单晶炉，不仅仅节约25%的电费，而且，单晶棒的直径、长度都远远超过预期。原本用来实验的是4英寸的单晶炉，这种单晶炉生产出来的晶圆直径应该在101.6毫米，但实际上，改良后生产出来的晶圆直径居然达到117毫米，虽然没达到6英寸，但也算是4.5英寸级！
晶圆直接更大，不仅仅是原材料产能增加的问题，更关键的是，相对于4英寸的晶圆而言，更大直径的晶圆加工出来的芯片的良品率也会更高。
貌似，目前国际市场上6英寸的单晶炉也是禁止对天朝出口的，原本4英寸的单晶炉也需要进口。只不过，由于维创电子的异军突起，促进了国产半导体产业的发展，像单晶炉这种设备属于用几次就要更换的消耗品，用国产的自然是更便宜。而因为有维创电子的订单，所以，国内有足够的动力把4英寸单晶炉技术搞成白菜价。
但是6英寸的单晶炉，目前技术上还存在一定难度。至少要几年功夫，才能做到国产化。然而这项热屏技术就让4英寸的单晶炉居然升级成了4.5英寸的单晶炉。技术人员自然感觉到非常激动，因为，原本6英寸的单晶炉的技术门槛，可能已经因为热屏技术就被轻易捅破了！喜欢重生从努力当学霸开始请大家收藏：
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